拋光表面的狀態(tài)對拋光質(zhì)量的影響

拋光表面的狀態(tài)對拋光質(zhì)量的影響  金屬原始表面狀態(tài)對電化學(xué)拋光有直接的影響。原始表面越光滑平坦越易拋光，拋光的時(shí)間短并獲得光潔的拋光面。相反，原始表面越粗糙拋光時(shí)間越長，而且最終獲得的拋光面光亮度越差。因此，金屬表面的預(yù)加工狀況對電化學(xué)拋光質(zhì)量影響極大，如果不先進(jìn)行整平，即伎使金屬材料的金相組織很均勻，純度很高，拋光質(zhì)量也難以保證。

粗糙的金屬表面在電化學(xué)拋光前可通過機(jī)械加工的方法，如磨削、精車、研磨、沖壓或擠壓等進(jìn)行預(yù)處理達(dá)到整平除銹、膜和去掉變形層等目的，以利于電化學(xué)拋光前可通過機(jī)械加工的方法，如磨削、精車、研磨、沖壓或擠壓等進(jìn)行預(yù)處理達(dá)到整平除銹、除膜和去掉變形層等目的，以利于電化學(xué)拋光的進(jìn)行。若金屬表有嚴(yán)重的腐蝕坑或有焊渣和不溶解膜時(shí)，則不宜采用電化學(xué)拖拋光。

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